研发流片服务

驰拓科技拥有国内唯一、国际上居于先进水平的28nm 12英寸后段工艺线，具备从技术研发到产品小规模量产的全套能力，可为客户提供全方位的流片及工艺开发服务，包括：

1. 无图案的介质薄膜沉积：如TEOS，SiN，LTO等；

2. 无图案的金属薄膜沉积：如Ta/TaN，Ti/TiN，Al，Cu，Co，CoFe，Ru等；

3. 光刻材料涂布：如光刻胶、BARC、SOC等；

4. 无图案的结构片加工：根据合作伙伴需求，提供多层膜的结构片加工及在线工艺检测服务；

5. 图案化的结构片加工：根据客户需求，提供包含28纳米技术节点以上的图案设计、光罩设计、图案化加工及在线工艺检测等多种服务和支持。

服务支持电话：13861777177

Email：sales@hikstor.com